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J-GLOBAL ID：202002218204954318   整理番号：20A0711128

部分酸化グラフェン酸化物合成のための改良Hummers法に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Study on Modified Hummers Method for Partially Oxidized Graphene Oxide Synthesis

著者 (2件)： Lim Wan Sin (Universiti Malaysia Pahang, Faculty of Industrial Sciences & Technology Kuantan Malaysia Pahang Lebuhraya Tun Razak, Gambang) ,  Chong Kwok Feng (Universiti Malaysia Pahang, Faculty of Industrial Sciences & Technology Kuantan Malaysia Pahang Lebuhraya Tun Razak, Gambang)
資料名： Materials Science Forum  (Materials Science Forum)
巻： 981  ページ： 23-28  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0716B  ISSN： 0255-5476  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェン酸化物(GO)は,グラフェン材料の合成における一般的な前駆体である有望な材料である。GOは,エレクトロニクス,エネルギー貯蔵,生物医学および化学におけるその顕著な応用により,急速に開発された材料として出現した。しかし,GO中の酸素含有量を制御することは,種々の応用を満たすことができるGOを調整するための重要な因子の一つである。本論文では,酸化中に希釈硫酸を用いた。Fourier変換赤外分光計(FTIR),紫外可視分光法(UV-Vis),X線回折(XRD)および熱重量分析(TGA)からのキャラクタリゼーション結果に基づいて,部分酸化グラフェン酸化物(PGO)を作製した。PGO合成は,FTIRにおけるC=Oピークのわずかな吸収と,完全に酸化された酸化グラフェンに見られるUV-Vis分析に対して,300nmにおける弱いピーク強度を示した。従って,PGO合成は部分的に酸化されると主張した。Copyright 2020 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 前駆体 ,  電子技術 ,  X線回折 ,  X線回折分析 ,  *酸化 ,  FTIR分光法 ,  *部分酸化 ,  硫酸 ,  キャラクタリゼーション ,  希釈 ,  *グラフェン ,  熱重量分析 ,  エネルギー貯蔵
準シソーラス用語： 紫外可視分光法 ,  生物医学 ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 酸化グラフェン ,  部分酸化グラフェン酸化物 ,  希釈硫酸

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 部分酸化 ,  グラフェン酸化物 ,  Hummers法 ,  研究