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J-GLOBAL ID：202002218641877692   整理番号：20A2061281

CoCrFeMnNi高エントロピー合金膜の濡れ性,電子仕事関数および腐食挙動【JST・京大機械翻訳】

Wettability, electron work function and corrosion behavior of CoCrFeMnNi high entropy alloy films

著者 (5件)： Wang Ze (School of Materials Engineering, Jiangsu University of Technology, Changzhou 213001, China) ,  Li D.Y. (Department of Chemical and Materials Engineering, University of Alberta, Edmonton, AB T6G 1H9, Canada) ,  Yao Yuan-Yuan (School of Materials Engineering, Jiangsu University of Technology, Changzhou 213001, China) ,  Kuo Yu-Lin (Department of Mechanical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei 10607, Taiwan) ,  Hsueh Chun-Hway (Department of Materials Science and Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 400  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異なる厚さ(250から1400nm)と構造を有するCoCrFeMnNi高エントロピー合金膜(HEAFs)をマグネトロンスパッタリングによって作製し,膜の濡れ性,表面電子活性,および耐食性の間の関係を研究した。XRDパターンから,アモルファス相から面心立方(FCC)構造への転移が膜厚の増大に伴って示された。膜表面のSEM顕微鏡写真は,膜厚の増加とともに球状島状構造から靭帯状島状構造への変化を示した。CoCrFeMnNi HEAFの表面濡れ性,電子仕事関数(EWF)および耐食性を,それぞれ,接触角測定,走査Kelvinプローブおよび電気化学システムを用いて研究した。より高いEWFを有する膜表面は,より活性の低い表面電子に起因して,より高い不活性度でより安定であり,低い極性,より高い疎水性および耐食性に寄与するより低い表面活性をもたらした。ナノスケールで最小の粒径と結晶粒界の最高密度を有する550nm厚の膜は,最も高いEWF(4.2eV),最大の疎水性(96°水接触角)と優れた耐食性(E_corr=-301mVとI_corr=0.481μA/cm2)を示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  結晶粒界 ,  *仕事関数 ,  接触角 ,  *濡れ ,  *腐食 ,  耐食性 ,  疎水性 ,  顕微鏡写真 ,  靱帯 ,  非晶質 ,  電気化学 ,  島状構造
準シソーラス用語： ナノスケール ,  *腐食挙動 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 高エントロピー合金膜 ,  微細構造 ,  濡れ性 ,  Electron仕事関数 ,  腐食

分類 (1件)： 防食  (WB03040M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高エントロピー合金 ,  濡れ性 ,  電子 ,  仕事関数 ,  腐食挙動