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J-GLOBAL ID：202002218798676685   整理番号：20A0427757

二次元遷移金属酸化物のn-ブタノール/水界面支援物理化学的調整【JST・京大機械翻訳】

n-Butanol/Water Interface-Aided Physicochemical Tuning of Two-Dimensional Transition-Metal Oxides

著者 (5件)： Rahman Poolakkandy Rasha (Department of Chemistry, National Institute of Technology Calicut, Kerala, India) ,  Kaladi Chondath Subin (Department of Chemistry, National Institute of Technology Calicut, Kerala, India) ,  Puthiyottil Nesleena (Department of Chemistry, National Institute of Technology Calicut, Kerala, India) ,  Davis Dayana (Department of Chemistry, St. Joseph’s College, Kerala, India) ,  Menamparambath Mini Mol (Department of Chemistry, National Institute of Technology Calicut, Kerala, India)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 36  号： 4  ページ： 872-879  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,遷移金属酸化物ニッケルcobalタイトの物理化学的調整を達成するために,2つの非混和性溶媒,n-ブタノールと水の界面の容易な制御を報告する。結晶核形成とニッケルcobalタイトの異なる形態への成長は,反応性界面層を通る反応性種の配向と物質移動に高度に依存する。1:1の溶媒比でn-ブタノール/水の界面において,明確な二次元フレーク状(1nm厚さ)のニッケルcobalタイトが形成された。むしろ,水性と有機性の対応物がそれぞれ増加すると,一次元針と不規則な相互接続ネットワークが達成される。fccスピネル構造の格子間サイトにおけるドーピング金属イオン(Co2+及びNi2+)に及ぼす溶媒比の影響はX線及び電子吸収研究から明らかである。界面支援合成は,広い応用のための種々の遷移金属酸化物を開発し,採用するための簡単で新しい方法を提供する可能性があると推定される。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *物理化学 ,  *二次元 ,  物質移動 ,  *界面 ,  電子吸収 ,  ドーピング ,  金属イオン ,  結晶核形成 ,  相互結合網 ,  一次元 ,  フレーク
準シソーラス用語： スピネル型構造 ,  界面層 ,  非混和性 ,  *遷移金属酸化物 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  液-液界面  (CB12030F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 遷移金属酸化物 ,  n-ブタノール ,  水 ,  界面 ,  支援