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J-GLOBAL ID:202002218848164230   整理番号:20A0329174

フェニルシロキサンハイブリッドキセロゲル:構造と多孔質集合組織【JST・京大機械翻訳】

Phenyl siloxane hybrid xerogels: structure and porous texture
著者 (7件):
資料名:
巻: 26  号:ページ: 177-188  発行年: 2020年 
JST資料番号: W1865A  ISSN: 0929-5607  CODEN: ADSOFO  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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本研究の目的は,キセロゲルの構造と多孔質組織に及ぼすケイ素前駆体としてのフェニルトリエトキシシラン(PhTEOS)とテトラエトキシシラン(TEOS)モル比の影響を調べることである。溶媒としてエタノールを用いて,pH10と333KでPhTEOSとTEOSの混合物からフェニルシランハイブリッドキセロゲルを調製した。キャラクタリゼーション技術は,29Si NMR,FTIR,XRD,FE-SEM,HRTEM,TGA-DSC,ヘリウム密度,およびガス吸着(77KでのN_2と273KでのCO_2)を含む。吸着におけるN_2とCO_2の四重極モーメントの寄与を評価するために,50%PhTEOSから合成したキセロゲルに対して87.3KでArの吸着-脱着等温線を得た。キセロゲルの形態は,20%のPhTEOSに対する球状粒子の凝集体から,PhTEOSの割合が60%以上の場合に得られた試料のラメラに変化した。キセロゲルマトリックスへのフェニル基の導入は,ケイ素原子間の間隔結合の増加を引き起こし,分子内反応とラメラドメインの形成をもたらした。ケイ素前駆体の混合物中のPhTEOSモル比の増加は,低い比表面積,細孔容積および特性エネルギーを有するハイブリッドキセロゲルを生成した。77KでのN_2の等温線と87.3KでのArの間の類似性は,主な保持機構が物理吸着であり,フェニル基の取り込みによる表面化学の変化がN_2の保持を阻害しないことを示す。Copyright Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2019 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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吸着剤 
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