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J-GLOBAL ID：202002219487355252   整理番号：20A1027525

後方散乱Mueller行列イメージングのための共線反射Mueller行列顕微鏡【JST・京大機械翻訳】

A collinear reflection Mueller matrix microscope for backscattering Mueller matrix imaging

著者 (8件)： Chen Zhenhua (School of Physics and Telecommunication Engineering, South China Normal University, Guangzhou 510006, China) ,  Meng Ruoyu (Tsinghua-Berkeley Shenzhen Institute, Tsinghua University, Shenzhen 518071, China) ,  Meng Ruoyu (Shenzhen Key Laboratory for Minimal Invasive Medical Technologies, Institute of Optical Imaging and Sensing, Graduate School at Shenzhen, Tsinghua University, Shenzhen 518055, China) ,  Zhu Yuanhuan (Tsinghua-Berkeley Shenzhen Institute, Tsinghua University, Shenzhen 518071, China) ,  Zhu Yuanhuan (Shenzhen Key Laboratory for Minimal Invasive Medical Technologies, Institute of Optical Imaging and Sensing, Graduate School at Shenzhen, Tsinghua University, Shenzhen 518055, China) ,  Ma Hui (Tsinghua-Berkeley Shenzhen Institute, Tsinghua University, Shenzhen 518071, China) ,  Ma Hui (Shenzhen Key Laboratory for Minimal Invasive Medical Technologies, Institute of Optical Imaging and Sensing, Graduate School at Shenzhen, Tsinghua University, Shenzhen 518055, China) ,  Ma Hui (Department of Physics, Tsinghua University, Beijing 100084, China)
資料名： Optics and Lasers in Engineering  (Optics and Lasers in Engineering)
巻： 129  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0602B  ISSN： 0143-8166  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販の金属顕微鏡の照明と検出光路に偏光状態発生器(PSG)と偏光状態分析器(PSA)を加えることにより,共線反射Muellerマトリックス顕微鏡を開発した。光学系の固有偏光,特に45°ビームスプリッタによる二色性のために,アーチファクトを低減するために,特定の努力がなされなければならないことが分かった。ビームスプリッタのアーチファクトを最小化するために,装置マトリックスの数値再構成に基づく新しいキャリブレーション法を採用した。試料として反射鏡を用いて,較正したMueller行列要素における最大誤差は0.02より小さい。電気紡糸試料を用いた予備試験結果は,共線反射Muellerマトリックス顕微鏡が,Muellerマトリックスの方位角配向への依存性を効果的に最小化し,異方性試料の微細構造特徴を特性化する能力を強化することを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 異方性 ,  金属顕微鏡 ,  反射鏡 ,  偏光 ,  光学系 ,  *画像処理 ,  二色性 ,  再構成 ,  *後方散乱 ,  ビームスプリッタ ,  状態分析 ,  キャラクタリゼーション ,  *Mueller行列 ,  アーチファクト ,  エレクトロスピニング

著者キーワード (5件)： Mueller行列 ,  顕微鏡 ,  後方散乱 ,  キャリブレーション ,  回転不変パラメータ

分類 (2件)： 干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 後方散乱 ,  Mueller行列 ,  イメージング ,  顕微鏡