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J-GLOBAL ID:202002220066138825   整理番号:20A2661496

宇宙産業における光学のための保護膜の評価【JST・京大機械翻訳】

Evaluation of protection films for optics in space industry
著者 (4件):
資料名:
巻: 11489  ページ: 114890N-7  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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新しく開発された宇宙装置は,ますます効率的で正確である。主な欠点の一つは,それらが結果的に汚染に対してますます敏感であることである。一旦統合すると,光学はクリーンルーム環境に連続的に曝露される。大部分の時間,洗浄操作は,被覆脆弱性またはアクセシビリティ制約を考慮して,危険または不可能であった。したがって,クリーンルームにおいても,特定のカバーの使用および/またはパージの実施により,アルトガエーテル厳しい操作制約,分子および粒子汚染沈着の誘導は避けられないようである。したがって,製造組立と試験中の最も重要な光学に対する保護膜の使用は,同じ清浄目標に達するための,全体の汚染レベルまたは操作上の制約の放出を著しく低減させるであろう。本研究では,宇宙機器光学専用の最も有望な保護膜(ワニス,接着剤テープおよび静電膜を含む)を同定し,評価することを目的とした試験キャンペーンの枠組で得られた結果を示した。分子および粒子汚染の両方への影響を,保護基質(側面,スペクトル特性,...)に及ぼす関連影響と共に調査した。最良解はAirbusで認定され,現在飛行ハードウェアに実装されている。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
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固体デバイス製造技術一般  ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  空気浄化 
タイトルに関連する用語 (5件):
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