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J-GLOBAL ID:202002221117063487   整理番号:20A0525925

高圧Bridgman法を用いたCdTe合成と結晶成長【JST・京大機械翻訳】

CdTe synthesis and crystal growth using the high-pressure Bridgman technique
著者 (15件):
資料名:
巻: 534  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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元素からのCdTeの効率的で,安全で費用対効果の高い合成は,Cdの高い蒸気圧のために,シリカ密封アンプルにおいてかなり挑戦的である。本論文では,大容量に拡張可能な高圧Bridgman(HPB)技術を用いた高純度CdTeの集積合成と結晶成長について報告する。このプロセスは,光電池,センサおよび電気光学応用のための多結晶原料材料のコスト競争的工業生産のためにそれ自身を提供する。1kgを超えるテルル化カドミウム(CdTe)結晶を,最先端のγ線検出器結晶に匹敵する純度の元素CdとTe源から合成した。さらに,V族(As,Sb)ドーパントの効果的な組込みを示す薄膜光起電力応用のための高ドープCdTe原料の合成を,~500mm/hrの成長速度で達成した。この技術は揮発性成分を含む他のII-VI化合物の生産に適用できる。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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半導体薄膜 
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