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J-GLOBAL ID：202002221128606290   整理番号：20A2122989

化学浴堆積法により作製したSnSの光学及び構造特性に及ぼすpHの影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of pH on the optical and structural properties of SnS prepared by chemical bath deposition method

著者 (5件)： John Smiya (Govt.Victoria College, Palakkad, University of Calicut, Kerala, India) ,  John Smiya (Mercy College, Palakkad, University of Calicut, Kerala, India) ,  Geetha V (Govt.Arts and Science College, Pathiripala, University of Calicut, Kerala, India.) ,  Francis Melda (Mercy College, Palakkad, University of Calicut, Kerala, India) ,  Francis Melda (Christ College, Irinjalakkuda, University of Calicut, Kerala, India.)
資料名： IOP Conference Series: Materials Science and Engineering  (IOP Conference Series: Materials Science and Engineering)
巻： 872  号： 1  ページ： 012139 (6pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5559A  ISSN： 1757-8981  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,SnS薄膜の光学的および構造的特性に及ぼすpHの影響を調べた。膜を化学浴析出法を用いてガラス基板上に成長させた。塩化スズとチオアセトアミドをそれぞれカチオンとアニオン前駆体として用いた。溶液のpHはAmmoniaを用いて変化した。膜は5つの異なるpH値9.2,9.3,9.4,9.5および9.6で調製した。光学的および構造的特性をUV可視分光光度計およびXRDを用いて調べた。光学的キャラクタリゼーションから,pHが9.2から9.5へ増加するとバンドギャップが減少することが分かった。膜の結晶性はpH値が増加するにつれて増加した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  薄膜 ,  分光光度計 ,  塩化スズ ,  結晶度 ,  アニオン ,  カチオン ,  前駆体 ,  キャラクタリゼーション ,  構造特性 ,  バンドギャップ ,  *pH【水素イオン指数】 ,  脂肪酸 ,  有機硫黄化合物
準シソーラス用語： *化学浴析出 ,  ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光物性一般  (BM08010A)

物質索引 (1件)： チオアセトアミド

タイトルに関連する用語 (6件)： 化学浴堆積 ,  作製 ,  SNS ,  光学 ,  構造特性 ,  pH