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J-GLOBAL ID：202002222050895133   整理番号：20A2203778

水中のスルファメトキサゾール除去のためのグラフェン系ナノ材料【JST・京大機械翻訳】

Graphene-based nanomaterial for the removal of sulfamethoxazole in water

著者 (4件)： Masri Aina Khalina (Section Environmental Engineering Technology, Universiti Kuala Lumpur Branch Campus Malaysian Institute of Chemical and Bio-Engineering Technology, Lot 1988, Taboh Naning Vendor City, Melaka 78000, Malaysia) ,  Yen Tong Wei (Section Bio Engineering Technology, Universiti Kuala Lumpur Branch Campus Malaysian Institute of Chemical and Bio-Engineering Technology, Lot 1988, Taboh Naning Vendor City, Melaka 78000, Malaysia) ,  Ahmad Mohamad Ali (Faculty of Mechanical Engineering, Universiti Teknologi MARA Shah Alam, Selangor 40450, Malaysia) ,  Karim Sabrina (Section Environmental Engineering Technology, Universiti Kuala Lumpur Branch Campus Malaysian Institute of Chemical and Bio-Engineering Technology, Lot 1988, Taboh Naning Vendor City, Melaka 78000, Malaysia)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 31  号： P1  ページ： 198-201  発行年： 2020年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有望なナノ材料として,酸化グラフェン(GO)は環境汚染物質に対する大きな収着可能性を示した。合成廃水におけるスルファメトキサゾール(SMX)の濃度を低下させる吸着剤としての酸化グラフェンの能力に焦点を当てた。本研究は,GOの異なる用量とSMXの異なる初期濃度の下でSMXを除去するGOの能力を評価した。GOは,最適化改良Hummer法を用いてグラファイトフレークの酸化から合成され,一方,収着研究はバッチ実験を用いて行われた。結果は,GOが0.02gから0.1gまでのGOの用量を最適化することによって,SMXの14.40%まで除去できることを示した。SMXの種々の初期濃度の下で,5mg/Lから20mg/Lまで,SMXを除去するGOの能力は,最大5.20%であった。両実験系はLangmuir等温線モデルに適合した。これは,GOがより高い濃度でSMXを除去する能力を持つが,反応時間は増加する必要があることを示した。本研究から得られた結果は,GOが抗生物質除去のための効果的な吸着剤として使用できることを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  収着 ,  グラファイト ,  抗生物質 ,  吸着剤 ,  フレーク ,  等温線 ,  *ナノ材料 ,  *グラフェン ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホンアミド ,  酸素複素環化合物 ,  第一アミン
準シソーラス用語： 環境汚染物質 ,  合成廃水 ,  初期濃度 ,  酸化グラフェン ,  バッチ実験 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 酸化グラフェン ,  最適化改良Hummer ,  スルファメトキサゾール ,  ナノ材料 ,  抗生物質

分類 (4件)： 下水,廃水の物理的処理  (SC03040L) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (1件)： スルファメトキサゾール

タイトルに関連する用語 (4件)： 水中 ,  スルファメトキサゾール ,  グラフェン ,  ナノ材料