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J-GLOBAL ID：202002222167870466   整理番号：20A1923904

コールドスプレーにおける被覆表面発生機構に及ぼす結晶方位効果の原子シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Atomic simulation of crystal orientation effect on coating surface generation mechanisms in cold spray

著者 (5件)： Zhao Pengyue (School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, No. 92, Xidazhi Street, Nangang District, Harbin 150001, China) ,  Zhang Qi (Qian Xuesen Laboratory of Space Technology, No. 104, Youyi Road, Haidian District, Beijing 100094, China) ,  Guo Yongbo (School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, No. 92, Xidazhi Street, Nangang District, Harbin 150001, China) ,  Liu Huan (School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, No. 92, Xidazhi Street, Nangang District, Harbin 150001, China) ,  Deng Zongquan (School of Mechatronics Engineering, Harbin Institute of Technology, No. 92, Xidazhi Street, Nangang District, Harbin 150001, China)
資料名： Computational Materials Science  (Computational Materials Science)
巻： 184  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0443A  ISSN： 0927-0256  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい表面改質法としてのコールドスプレー(CS)は,表面品質の改善に広く適用されている。本研究では,コールドスプレーにおける被覆表面生成メカニズムに及ぼす粉末粒子の結晶方位の影響を,分子動力学(MD)シミュレーションにより系統的に調査した。著者らのシミュレーションにおけるジェット領域における非晶質化傾向と温度分布は以前の実験結果と一致した。特に,著者らの結果は,結晶配向が粉末粒子と基板の表面との間の相互作用に劇的に影響を及ぼし,異なる結晶方位を有する粉末粒子に対する粒子/基板界面領域における異なる原子応力分布,転位密度変化および微細構造進展過程に導くことを示した。滑り面システムに関連した被覆表面生成機構を考察した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 温度分布 ,  界面 ,  *シミュレーション ,  相互作用 ,  滑り面 ,  *被覆 ,  *結晶方位 ,  転位密度 ,  応力分布 ,  分子動力学 ,  アモルファス化 ,  *コールドスプレー
準シソーラス用語： 生成機構 ,  *原子論的シミュレーション , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： コールドスプレー ,  結晶配向 ,  表面発生 ,  塑性変形 ,  ジェッティング ,  分子動力学

分類 (2件)： 表面処理一般  (WC08010R) ,  溶射  (WC08030N)

タイトルに関連する用語 (3件)： コール ,  結晶方位 ,  原子シミュレーション