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J-GLOBAL ID：202002222424669812   整理番号：20A0284960

イミダクロプリドの電気化学的還元のための2種類の異なる酸化ニッケル膜の比較【JST・京大機械翻訳】

Comparison of two different nickel oxide films for electrochemical reduction of imidacloprid

著者 (5件)： Liu Zongyu (Key Laboratory of Industrial Ecology and Environmental Engineering, Ministry of Education (MOE), School of Environmental Science and Technology, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China. [e-mail]) ,  Tian Ying ,  Zhou Xiaohui ,  Liu Xiao ,  Huang Liping
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 10  号： 6  ページ： 3040-3047  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゾル-ゲル法によりNi箔上に酸化ニッケル(NiO)薄膜を成功裏に調製し,還元状態酸化ニッケル(r-NiO)薄膜をヒドラジン水和物溶液でNiOをエッチングすることにより得た。X線回折と走査電子顕微鏡による構造キャラクタリゼーションは,ニッケル箔表面上のナノ構造膜の成長を明らかにした。サイクリックボルタンメトリー,線形掃引ボルタンメトリーおよび電気化学インピーダンス分光法を用いて,2つの膜の性能を評価した。定電位条件下でのアルカリ性イミダクロプリド溶液の電解還元を3電極系で行った。80.2%(r-NiO)および66.3%(NiO)の除去効率,および67.3%(r-NiO)および58.9%(NiO)の電流効率は,裸のNi電極上で41.7%(除去効率)および0.003%(電流効率)よりはるかに高かった。本研究は,NiOまたはr-NiOの複合材料を有する2つの新規薄膜を調製して,このように,イミダクロプリドの実行可能で効率的な電気化学的分解を提供した。分解生成物を特性化し,可能な分解経路を提案した。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 薄膜 ,  複合材料 ,  ナノ構造 ,  X線回折 ,  電位 ,  *ニッケル ,  *電気化学 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  電流効率 ,  *カソード還元 ,  ゾル-ゲル法 ,  分解物 ,  走査電子顕微鏡 ,  *酸化ニッケル ,  キャラクタリゼーション

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： イミダクロプリド ,  電気化学的還元 ,  酸化ニッケル