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J-GLOBAL ID：202002222506201134   整理番号：20A0427180

高出力パルス反応性マグネトロンスパッタリングにより作製したCrN被覆の優れた性質【JST・京大機械翻訳】

The superior properties of CrN coatings prepared by high power pulsed reactive magnetron sputtering

著者 (6件)： Li Qian (Lab of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China) ,  Yang Lizhen (Lab of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China) ,  Wang Zhengduo (Lab of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China) ,  Zhang Haibao (Lab of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China) ,  Liu Zhongwei (Lab of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China) ,  Chen Qiang (Lab of Plasma Physics and Materials, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing 102600, China)
資料名： AIP Advances (Web)  (AIP Advances (Web))
巻： 10  号： 1  ページ： 015125-015125-8  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7121A  ISSN： 2158-3226  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,高出力マグネトロンスパッタリング(HiPIMS)技術を用いて作製した窒化クロム(CrN)被覆の特性を調べた。比較として,直流マグネトロンスパッタリング(DCMS)技術を用いて調製したCrN被覆も研究した。堆積したCrN被覆の結晶構造,表面および断面形態,および複合材料特性を,それぞれX線回折,走査電子顕微鏡および微小硬さ試験機により比較した。HiPIMSによる蒸着CrN膜は(111)ファセット上のDCMSによるものと比較して,(200)ファセット上で優先的に成長することが分かった。結果として,HiPIMSにより堆積した被覆は,高硬度を有する非常にコンパクトな微細構造を有していた:微小硬さは,DCMSにより501.5Hvに置換して,855.9Hvに達した。さらに,HiPIMSによって調製したCrN膜の内部応力も比較的小さい。耐食性を測定した後,HiPIMSにより調製した膜の腐食電流はDCMSにより堆積したCrN膜のそれよりも一桁小さかった。時間分解発光分光法によるプラズマ診断に基づいて,HiPIMSによって調製されたCrN被覆の優れた品質はCrN膜成長中のDCMS中の中性CrとN反応よりもCr+とN+間のイオン反応のためであると信じられる。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ファセット ,  薄膜成長 ,  内部応力 ,  蒸着 ,  耐食性 ,  イオン ,  *パルス ,  腐食電流 ,  品質 ,  *被覆 ,  走査電子顕微鏡 ,  *クロム ,  結晶構造 ,  X線回折 ,  微小硬さ ,  X線回折分析

分類 (2件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高出力 ,  パルス ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  性質