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J-GLOBAL ID：202002222605561451   整理番号：20A0145848

DCマグネトロンスパッタリングを用いて堆積した水素フリー炭素膜のプラズマパラメータと特性に及ぼすヘリウム取り込みの影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of helium incorporation on plasma parameters and characteristic properties of hydrogen free carbon films deposited using DC magnetron sputtering

著者 (4件)： Sahu Bibhuti B. (School of Advanced Materials Science and Engineering, Center for Advanced Plasma Surface Technology (CAPST), Sungkyunkwan University, Suwon 440-746, South Korea) ,  Kim Sung I. (School of Advanced Materials Science and Engineering, Center for Advanced Plasma Surface Technology (CAPST), Sungkyunkwan University, Suwon 440-746, South Korea) ,  Lee Min W. (School of Advanced Materials Science and Engineering, Center for Advanced Plasma Surface Technology (CAPST), Sungkyunkwan University, Suwon 440-746, South Korea) ,  Han Jeon G. (Department of Industrial Engineering, Faculty of Engineering, Chiang Mai University, Chiang Mai 50200, Thailand)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 127  号： 1  ページ： 014901-014901-9  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,プラズマパラメータに及ぼすArとヘリウム(He)ガス混合の影響を調べ,C膜の膜特性に及ぼすその効果を調べた。30W/cm2の直流電力密度と約3mTorrの動作圧力におけるC薄膜の堆積のための閉磁場不平衡マグネトロンスパッタリングシステムを用いた。系統的な解析に基づいて,Ar背景にHeガスを組み込むことにより,プラズマ中の効率的なイオン化に必要な電子温度を増強し,高エネルギー電子尾部を調べる試みを示した。このアプローチはプラズマ密度を高くすることも促進し,混合比80%で2倍以上である。さらに,本研究では,これらのプラズマ条件を利用して,水素を含まない高導電性ナノ構造炭素膜を調製した。系統的なプラズマ診断と膜分析により,高密度プラズマ環境における高導電性ナノ結晶炭素膜の作製に対して高いHe取り込み量が説明できることを明らかにした。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 混合比 ,  磁場 ,  *ヘリウム ,  *プラズマ ,  プラズマ密度 ,  プラズマ診断 ,  ナノ結晶 ,  *水素 ,  非平衡状態 ,  アルゴン ,  電子温度 ,  *プラズマパラメータ ,  ナノ構造 ,  薄膜
準シソーラス用語： *炭素膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  プラズマ一般  (BJ02010B)

タイトルに関連する用語 (7件)： DCマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  水素 ,  炭素膜 ,  プラズマパラメータ ,  ヘリウム ,  取り込み