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J-GLOBAL ID:202002222631447759   整理番号:20A1582522

流動層化学蒸着(CVD)により,化学量論比のTiN粉体を調製した。【JST・京大機械翻訳】

Preparation of nearly-stoichiometric TiN powder by chemical vapor deposition in fluidized-bed
著者 (4件):
資料名:
巻: 71  号:ページ: 2743-2751  発行年: 2020年 
JST資料番号: E0215B  ISSN: 0438-1157  CODEN: HUKHAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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伝統的な気体-固体反応プロセスによるTiN粉体の調製は,内部拡散制御過程が難しく,高純度で,正の化学量論比のTiN粉体を調製するのに,大きな困難性がある。流動化化学蒸着(FBCVD)プロセスによる高品質TiN粉体の調製,すなわち,TiCl4-N2-H2系に基づく,TiNシード粉体上への新しい高品質TiN粉体の堆積のための新規方法を,提案した。TiNシード粉体の粒径が52.95μmより大きい場合,1000°Cで2h堆積しても,TiNシード粉体にサブミクロンサイズの結節状新生TiN粒子が得られた。酸素窒素分析器とXRD分析により、新方法は粉体の窒素含有量を著しく向上させ、近化学量論比のTiN0.96が得られ、酸素含有量は約40%低下することが分かった。さらに、流動層中の気相蒸着TiNの成長モードは島状成長モードであり、工業で高品質のTiN粉体を調製するための新たな方法を提供した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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化学工学一般 

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