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J-GLOBAL ID：202002222741409467   整理番号：20A1037811

光電気触媒のためのCVD堆積CuWO_4,CuO,およびWO_3薄膜における光キャリア動力学の比較研究【JST・京大機械翻訳】

Comparative Study of Photocarrier Dynamics in CVD-deposited CuWO₄, CuO, and WO₃ Thin Films for Photoelectrocatalysis

著者 (11件)： Hirst James (Institute for Solar Fuels, Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, 14109 Berlin, Germany) ,  Mueller Sonke (Institute for Solar Fuels, Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, 14109 Berlin, Germany) ,  Peeters Daniel (Inorganic Materials Chemistry, Ruhr University Bochum, Universitaetsstr. 150, 44780 Bochum, Germany) ,  Sadlo Alexander (Inorganic Materials Chemistry, Ruhr University Bochum, Universitaetsstr. 150, 44780 Bochum, Germany) ,  Mai Lukas (Inorganic Materials Chemistry, Ruhr University Bochum, Universitaetsstr. 150, 44780 Bochum, Germany) ,  Reyes Oliver Mendoza (Institute of Electrochemistry, Ulm University, Albert-Einstein-Allee 47, 89069 Ulm, Germany) ,  Friedrich Dennis (Institute for Solar Fuels, Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, 14109 Berlin, Germany) ,  Mitoraj Dariusz (Institute of Electrochemistry, Ulm University, Albert-Einstein-Allee 47, 89069 Ulm, Germany) ,  Devi Anjana (Inorganic Materials Chemistry, Ruhr University Bochum, Universitaetsstr. 150, 44780 Bochum, Germany) ,  Beranek Radim (Institute of Electrochemistry, Ulm University, Albert-Einstein-Allee 47, 89069 Ulm, Germany) ,  Eichberger Rainer (Institute for Solar Fuels, Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, 14109 Berlin, Germany)
資料名： Zeitschrift fuer Physikalische Chemie  (Zeitschrift fuer Physikalische Chemie)
巻： 234  号： 4  ページ： 699-717  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0443A  ISSN： 0942-9352  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直接化学蒸着法により堆積したCuWO_4,CuO及びWO_3薄膜における光発生キャリアの時間発展を,光キャリア寿命,移動度及び拡散長を得るために時間分解マイクロ波伝導率及びテラヘルツ分光法を用いて研究した。銅からタングステンの化学量論を変化させて調製した膜のキャリア輸送特性を比較し,その結果をそれぞれの光電気化学セルに組み込まれた組成の性能に関連させた。優れたキャリア移動度は,フロントサイド照明下でCuWO_4に対して観察された。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 移動度 ,  キャリア移動度 ,  キャリア寿命 ,  *薄膜 ,  マイクロ波 ,  タングステン ,  銅 ,  拡散距離 ,  化学量論 ,  化学蒸着 ,  *酸化第二銅 ,  時間発展
準シソーラス用語： キャリア輸送 ,  *キャリア動力学 ,  伝導率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： キャリア動力学 ,  CuWO_4 ,  CVD ,  金属酸化物 ,  光電気触媒反応 ,  薄膜 ,  TRMC

分類 (1件)： 電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光電気触媒 ,  CVD ,  堆積 ,  CuO ,  薄膜 ,  キャリア動力学 ,  研究