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J-GLOBAL ID:202002223658957737   整理番号:20A0062442

フェムト秒レーザパルスとの相互作用後のシリコン表面の加熱に及ぼす線形チャーピング効果【JST・京大機械翻訳】

Linear chirping effects on heating of silicon surface after interaction with femtosecond laser pulses
著者 (3件):
資料名:
巻: 202  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0251A  ISSN: 0030-4026  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,超短チャープレーザパルスとシリコンとの相互作用を研究した。チャープ効果は超短レーザパルスの瞬時周波数を変える。正確なシミュレーションのために,シリコンの吸収スペクトルを一定の吸収値の代わりに用いた。2温度モデルの方程式を解くための有限差分法を用いて加熱とレーザ吸収を調べた。キャリア数密度の時間発展も,追加方程式を2温度方程式と結合することにより決定した。異なる時間における数密度,キャリア温度および格子温度を,アップ,ダウン,および非チャープレーザパルスに対して比較した。アップチャープまたはダウンチャープレーザパルスを適用することにより,シリコンによるレーザ吸収が非チャープレーザパルスに比べて増加することを示した。また,線形チャープレーザパルスを用いることにより,キャリアと格子の最大温度が増加することを明らかにした。結果は,ポンデロ原動力による効果的加速のために,ダウンチャープレーザパルスのためのレーザ吸収が,アップチャープレーザパルスより効率的であることを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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レーザ一般  ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学 
タイトルに関連する用語 (5件):
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