文献
J-GLOBAL ID:202002224409171957   整理番号:20A0827464

SRAM安定性解析と性能-異なるキャッシュ構成のための信頼性トレードオフ【JST・京大機械翻訳】

SRAM Stability Analysis and Performance-Reliability Tradeoff for Different Cache Configurations
著者 (5件):
資料名:
巻: 28  号:ページ: 620-633  発行年: 2020年 
JST資料番号: W0516A  ISSN: 1063-8210  CODEN: ITCOB4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
Bias温度不安定性(BTI),ホットキャリア注入(HCI),ゲート-酸化物時間依存絶縁破壊(GTDDB),およびランダム電信雑音(RTN)は,深くスケールされたトランジスタの安定性と全体の回路信頼性を劣化させる。これらのフロントエンド機構は,頻繁なアクセスによるマイクロプロセッサの性能にとって重要な,最初のレベル(L1)キャッシュの静的ランダムアクセスメモリ(SRAM)セルにおいて特に急性である。本論文は,異なるキャッシュ構成に対するBTI,HCI,GTDDB,およびRTNの組合せ効果によるキャッシュ信頼性劣化を分析する方法論を提示した。これは,関連性,キャッシュラインサイズ,キャッシュサイズ,および誤り訂正符号(ECCs)に起因する変動を含んでいる。プロセスと環境パラメータによる時間ゼロ変動も考慮した。まず第一に,著者らは,各々の機構が信頼性劣化に影響を及ぼす方法を分析した。次に,LEON3マイクロプロセッサ内のL1キャッシュの信頼性(故障確率)と性能(ヒット率)の間の関係を解析した。一方,LEON3は,セルアレイの活動を決定し,デューティサイクル,トグル速度,温度,およびセルの供給電圧分布によって特徴付けられた。性能-信頼性トレードオフに関する洞察をキャッシュ設計者に提供した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体集積回路 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る