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J-GLOBAL ID：202002225345781169   整理番号：20A0521085

無マトリックスLDI-MS性能に及ぼすナノ構造SOI表面の埋め込み酸化物層の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of buried oxide layers of nanostructured SOI surfaces on matrix-free LDI-MS performances

著者 (3件)： Hamdi Abderrahmane (Univ. Lille, CNRS, Centrale Lille, ISEN, Univ. Valenciennes, IEMN, UMR CNRS 8520, Avenue Poincare, BP 60069, 59652 Villeneuve d’Ascq, France. [e-mail]) ,  Hosu Ioana Silvia ,  Coffinier Yannick
資料名： Analyst  (Analyst)
巻： 145  号： 4  ページ： 1328-1336  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0392A  ISSN： 0003-2654  CODEN： ANALAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,種々の埋め込まれた酸化物(BOx)層厚を示す異なる「自家製」SOI基板のシリコン結晶最上層のナノ構造化について報告する。ナノ構造化は一段階金属支援化学エッチング(MACE)法により達成した。エッチングしたN-SOI基板表面をAFM,SEM及び光ルミネセンスにより特性化した。それらのレーザ脱離/イオン化質量分析性能を調べるために,異なる表面をペプチド混合物に対して評価した。マトリックスを含まないLDI過程がレーザ照射後の表面加熱から生じ,薄いナノ構造Si表面層における熱閉込めにより促進されることを示した。この熱閉込めは,信号強度,ペプチド識別,スポットへのスポットおよび表面への表面変化に関する最良の結果が得られるまで,200nmの最適厚さまで埋め込まれた酸化物層の厚さの増加により強化された。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 層厚 ,  脱着 ,  ケイ素 ,  質量分析 ,  キャラクタリゼーション ,  光ルミネセンス ,  レーザ照射 ,  表層 ,  ペプチド ,  レーザ ,  *ナノ構造 ,  *酸化物 ,  酸化層 ,  イオン化
準シソーラス用語： 信号強度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (5件)： マトリックス ,  ナノ構造 ,  SOI ,  埋め込み ,  酸化物層