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J-GLOBAL ID：202002226141495863   整理番号：20A0447246

成膜技術 9 PVD 9.3 レーザアブレーション

著者 (1件)： 西川博昭 (近畿大)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 71  号： 2  ページ： 132-133  発行年： 2020年02月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・表面処理技術の最近の進歩を解説する特集において,本稿では成膜技術における物理蒸着(PVD),特にレーザアブレーション(LH)について解説。
・LHの概要,装置構成,原理を簡単に説明した後,特徴として,多様な物質の利用が可能,得られる膜の組成がターゲットにほぼ等しい,容易な操作性,等を紹介。

シソーラス用語： *製造 ,  物理蒸着 ,  *レーザアブレーション ,  原理 ,  化学組成 ,  ターゲット ,  操縦性
準シソーラス用語： *薄膜作製 ,  操作性

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (3件)： 成膜 ,  PVD ,  レーザアブレーション