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J-GLOBAL ID：202002226177090830   整理番号：20A2634733

パリレン被覆によるシリコン(100)ベースの超伸縮性構造の応力集中解析と製造【JST・京大機械翻訳】

Stress concentration analysis and fabrication of silicon (100) based ultra-stretchable structures with parylene coating

著者 (8件)： Rehman Mutee Ur (Electrical Engineering, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran 31261, Saudi Arabia) ,  Babatain Wedyan (Computer, Electrical and Mathematical Sciences & Engineering Division, King Abdullah University of Science and Technology, Thuwal 23955, Saudi Arabia) ,  Shaikh Sohail Faizan (Computer, Electrical and Mathematical Sciences & Engineering Division, King Abdullah University of Science and Technology, Thuwal 23955, Saudi Arabia) ,  Conchouso David (Computer, Electrical and Mathematical Sciences & Engineering Division, King Abdullah University of Science and Technology, Thuwal 23955, Saudi Arabia) ,  Conchouso David (Escuela de Ingenieria, Universidad Anahuac Puebla, Puebla 72810, Mexico) ,  Qaiser Nadeem (Computer, Electrical and Mathematical Sciences & Engineering Division, King Abdullah University of Science and Technology, Thuwal 23955, Saudi Arabia) ,  Hussain Muhammad Mustafa (Computer, Electrical and Mathematical Sciences & Engineering Division, King Abdullah University of Science and Technology, Thuwal 23955, Saudi Arabia) ,  Rojas Jhonathan Prieto (Electrical Engineering, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran 31261, Saudi Arabia)
資料名： Extreme Mechanics Letters  (Extreme Mechanics Letters)
巻： 41  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W3055A  ISSN： 2352-4316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 伸縮性エレクトロニクスの研究は,特にウェアラブルおよびバイオ統合デバイスにおいて,現在の電子産業を革命するのに役立つ。費用対効果と容易な製造は,そのような技術の運命の形成に寄与する鍵となる因子である。本研究では,低コスト,標準バルクシリコン(100)ウエハを用いて構築された新しい超伸縮性蛇行-アームスパイラル(SAS)の製作法を提案した。しかし,パターン形成過程中にしばしば現れる構造欠陥は,延伸時にこれらのサイトで応力集中と構造破壊をもたらす。この応力集中を最小化し,構造ロバスト性を改善するために,構造のパリレン被覆を提案した。有限要素解析(FEA)を行い,2サイズ(0.1μmと1μm)とアームに沿った異なる位置でのこれらの欠陥サイトでの応力濃度を実証した。その結果,SAS構造は,直線アーム螺旋と比較して欠陥位置で~80%の応力低減に達するが,パリレン被覆は,さらに60%まで減少するのを助けることが分かった。一方,非被覆,SAS構造は破壊前に最大600%の処方歪に達し,一方,パリレン被覆は~50%でこの最大許容歪を改善した。さらに,繰返し引張試験を,破壊なしに3000サイクル以上,作製した構造,非被覆およびパリレン被覆に対して行った。被覆構造で観察された結果は,このような脆性構造の機械的依存性を大きく改善し,他の伸縮性構成に拡張できた。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *応力集中 ,  引張試験 ,  *ケイ素 ,  *被覆 ,  脆性 ,  蛇行 ,  延伸 ,  アーム ,  ロバスト性 ,  パターン形成
準シソーラス用語： 有限要素解析 ,  *Parylene ,  費用対効果 ,  構造欠陥 ,  伸縮性エレクトロニクス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： スパイラル ,  セルペンチン ,  シリコン ,  パリレン ,  伸縮性エレクトロニクス ,  有限要素解析

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： パリレン ,  シリコン ,  伸縮性 ,  応力集中 ,  解析