文献

J-GLOBAL ID：202002226439376151   整理番号：20A0521548

機械的性質とフッ素浸透に及ぼす非晶質炭素膜中の水素濃度の影響:密度汎関数理論とab initio分子動力学研究【JST・京大機械翻訳】

The influence of hydrogen concentration in amorphous carbon films on mechanical properties and fluorine penetration: a density functional theory and ab initio molecular dynamics study

著者 (8件)： Park Hwanyeol (Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University, Seoul 08826, Korea. [e-mail] [e-mail]) ,  Woo Daekwang ,  Lee Jong Myeong ,  Park Se Jun ,  Lee Sungwoo ,  Kim Ho Jun ,  Yoon Euijoon ,  Lee Gun-Do
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 10  号： 12  ページ： 6822-6830  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質炭素(a-C)膜は,それらの信頼できる構造と優れた機械的,化学的および電子的性質のために大きな注目を集めており,将来の集積半導体デバイスの作製のためのエッチングハードマスク材料としての有力な候補となっている。密度汎関数理論(DFT)計算及びab initio分子動力学(AIMD)シミュレーションを行い,原子密度又は水素含有量を調整することによりsp3含有量を増加させたa-C膜のエネルギー論,構造及び機械的性質を調べた。バルク弾性率の劇的な増加がa-C膜の原子密度の増加により観測され,これは集積半導体デバイスの全体スタック内の個々の層の応力を緩和するために高原子密度で硬化した膜には困難であることを示唆する。しかし,a-C膜への水素の添加はsp3含有量が増加しても体積弾性率の増加にほとんど影響しなかった。Fブロッキングの性質に対して,原子密度とH濃度の両方によるsp3含有量の変化は,F原子に対する拡散障壁をより高くし,F拡散を抑制し,F原子がsp2炭素を通過する拡散経路に従い,著しく高い障壁によりsp3炭素ではないことを示した。適切なドープ特性を有するa-C膜の材料設計に対して,著者らの結果は,優れた機械的および他の新規物理的および化学的性質を有するa-C膜を調整するための新しい直接的戦略を提供することができた。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： シミュレーション ,  ドーピング ,  *分子動力学 ,  *水素 ,  *密度汎関数法 ,  材料設計 ,  拡散障壁 ,  弾性係数 ,  *機械的性質 ,  半導体素子 ,  *浸透 ,  *フッ素 ,  ブロッキング
準シソーラス用語： 原子密度 ,  *アモルファスカーボン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 高分子固体の力学的性質  (CG02023D) ,  機械的性質  (YH02022L) ,  膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： 機械的性質 ,  フッ素 ,  浸透 ,  非晶質 ,  炭素膜 ,  水素濃度 ,  密度汎関数理論 ,  分子動力学 ,  研究