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J-GLOBAL ID：202002226653790244   整理番号：20A1107918

3D多孔性PCL足場と2D PCL膜に適用した異なる窒素含有プラズマ修飾の比較研究【JST・京大機械翻訳】

Comparative study of different nitrogen-containing plasma modifications applied on 3D porous PCL scaffolds and 2D PCL films

著者 (8件)： Cheng Lu (Institute of Industrial Ecology and Environment, College of Chemical and Biological Engineering, Zhejiang University, 148 Tianmushan Road, 310028 Hangzhou, Zhejiang, China) ,  Cheng Lu (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering & Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Ghent, Belgium) ,  Ghobeira Rouba (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering & Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Ghent, Belgium) ,  Cools Pieter (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering & Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Ghent, Belgium) ,  Liu Zhen (Institute of Industrial Ecology and Environment, College of Chemical and Biological Engineering, Zhejiang University, 148 Tianmushan Road, 310028 Hangzhou, Zhejiang, China) ,  Yan Keping (Institute of Industrial Ecology and Environment, College of Chemical and Biological Engineering, Zhejiang University, 148 Tianmushan Road, 310028 Hangzhou, Zhejiang, China) ,  De Geyter Nathalie (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering & Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Ghent, Belgium) ,  Morent Rino (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering & Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Ghent, Belgium)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 516  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素含有プラズマを用いた3D-足場の添加剤製造と2D-基質の表面改質は,それらの細胞応答性トポグラフィーと化学的特徴のために組織工学分野を別々に進歩させた。しかし,それらの相乗的な実行は,多孔質構造を通しての不均一表面処理のために,ほとんど成功しないままである。したがって,本研究はポリカプロラクトン(PCL)足場の3D印刷と3つのプラズマ修飾によるそれらの表面化学の最適化に焦点を合わせた:N_2活性化,NH_3:HE(1:9)活性化およびアリルアミン重合。適切な最適化のために,二次電子画像カメラに接続されたX線光電子分光法(XPS)を用いた局所測定により,足場断面を通して正確な表面化学分析を行った。N_2プラズマ活性化(2.8%)と比較して,NH_3(5.0%)後に,全体的に高い窒素取込とアミノ選択性が検出された。C-N結合として主に取り込まれた著しく高い平均窒素含有量(12.4%)が,足場全体にわたって優れた均一性を示すプラズマ重合アリルアミン被覆上で認められた。実際に,高エネルギー密度は,最先端技術と比較すると,依然として非常に高い窒素含有量(7%)を示す足場内部支柱に向かって対称的な浅い窒素勾配を持つ被覆の堆積をもたらす。全体として,本研究は多孔質足場のプラズマ処理のための完全な画像参照を構成する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  *プラズマ ,  対称性 ,  *窒素 ,  被覆 ,  支柱 ,  *二次元 ,  *三次元 ,  プラズマ重合 ,  X線光電子分光法 ,  界面化学 ,  プラズマ処理 ,  生体組織工学 ,  脂肪族アミン ,  アリル化合物 ,  第一アミン
準シソーラス用語： 二次電子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： PCL ,  3D印刷 ,  N_2プラズマ ,  NH_3プラズマ ,  アリルアミンプラズマ重合 ,  XPS分析

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

物質索引 (1件)： アリルアミン

タイトルに関連する用語 (9件)： 3D ,  多孔性 ,  PCL ,  足場 ,  2D ,  窒素 ,  プラズマ ,  修飾 ,  研究