文献
J-GLOBAL ID:202002227349298567   整理番号:20A0870413

高圧下の無電解ニッケル-リンめっきの動力学モデリング【JST・京大機械翻訳】

Kinetic Modelling of Electroless Nickel-Phosphorus Plating under High Pressure
著者 (7件):
資料名:
巻:号: 12  ページ: 6937-6946  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5044A  ISSN: 2470-1343  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
無電解ニッケル-リンめっき(ENPP)において,高圧下でのめっき層の成長は大気圧下よりも速いことが分かった。ENPP反応の機構に及ぼす高圧の影響を定量的に解明するために,めっき溶液中に存在する化学種の物質移動と反応の両方を考慮した速度論モデルを提案した。めっき溶液中の化学種の濃度と同様にめっき層の厚さの過渡変化を計算するために化学種間の物質収支方程式を解いた。計算結果を非線形最小二乗法に基づく実験的に得られた結果に適合させることにより,膜物質移動係数,吸着定数及びモデル中の化学種の反応速度定数のようなパラメータを決定した。結果として,高圧下での膜物質移動係数は周囲圧力下でのそれよりも大きく,圧力に対する係数の依存性を明らかにした。著者らの推定パラメータを用いた速度論モデルに基づいて計算しためっき溶液中の化学種濃度の過渡的変化は,決定係数が99%以上の実験結果を厳密にモデル化した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
無電解めっき 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る