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J-GLOBAL ID:202002227645584688   整理番号:20A1066821

籾殻灰から誘導したシリカ-o-フェニレンジアミンによるニッケル(II)イオンの取り込み【JST・京大機械翻訳】

Uptake of Nickel(II) Ion by Silica-o-Phenylenediamine Derived from Rice Husk Ash
著者 (5件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 1103-1110  発行年: 2020年 
JST資料番号: W4947A  ISSN: 1876-9918  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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Rice Husk Ashとo-フェニレンジアミン(OPDA)から誘導したシリカ-ortho-フェニレンジアミン(RHAOPDA)を合成した。調製した材料を異なる技術により特性化した。合成した材料のN_2-吸着-脱着測定は,RHAOPDAの表面積が25.10m2g(-1)で,平均細孔径は15.10nmであることを示した。CHNSとFT-IR分析は,o-フェニレンジアミンが修飾シリカRHACI上に成功裏に組み込まれたことを証明した。X線回折法は,22°(2θ)で最大強度を持つRHAOPDAの非晶質性を示し,一方,走査電子顕微鏡(SEM)技術は,粒子の形状が平均粒径が22.62nmのカリフラワーの果実に似ていることを示した。RHAOPDAの熱重量分析(TGA-DTA)は,物理的に吸着された水が(30~150)°Cの間で失われたことを示し,それはシリカ-ortho-フェニレンジアミン中で弱く結合していたが,材料の残留部分は820°Cまで分解した。RHAOPDAは水溶液からNi(II)イオンの取り込みと除去に高い可能性を示した。Copyright Springer Nature B.V. 2019 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (4件):
分類
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高分子固体の物理的性質  ,  電気化学反応  ,  分析機器  ,  高分子固体のその他の性質 
物質索引 (1件):
物質索引
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