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J-GLOBAL ID：202002227995590965   整理番号：20A0212151

液晶トポロジカル欠陥のパターン形成と表面改質の効果

Effect of surface treatment on pattern formation of topological defects in nematic liquid crystals

著者 (6件)： 佐々木裕司 (北大 大学院) ,  横川俊輔 (北大 大学院) ,  高橋淳之介 (北大 大学院) ,  吉川拓穂 (北大 大学院) ,  藤井修治 (北大 大学院) ,  折原宏 (北大 大学院)
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2019  ページ： ROMBUNNO.3C02  発行年： 2019年08月19日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： まとめると,ネマチック液晶の平均分子配向は表面により制御できることが知られ...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *ネマチック相 ,  *パターン形成 ,  *欠陥 ,  制御 ,  シランカップリング剤 ,  表面改質 ,  電圧依存性 ,  自己組織化
準シソーラス用語： *ネマチック液晶 ,  *トポロジカル欠陥 ,  配向制御

分類 (1件)： ネマチック相  (BK03020W)

タイトルに関連する用語 (4件)： 液晶 ,  トポロジカル欠陥 ,  パターン形成 ,  表面改質