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J-GLOBAL ID：202002228549139920   整理番号：20A0126748

水中のテトラサイクリン除去のためのUVCとUVC/過硫酸塩プロセスの比較【JST・京大機械翻訳】

Comparison of UVC and UVC/persulfate processes for tetracycline removal in water

著者 (7件)： Xu Mengyuan (College of Civil Engineering and Architecture, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310023, China) ,  Deng Jing (College of Civil Engineering and Architecture, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310023, China) ,  Cai Anhong (College of Civil Engineering and Architecture, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310023, China) ,  Ma Xiaoyan (College of Civil Engineering and Architecture, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310023, China) ,  Li Jun (College of Environment, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China) ,  Li Qingsong (Water Resources and Environmental Institute, Xiamen University of Technology, Xiamen 361005, China) ,  Li Xueyan (School of Environmental Science and Engineering, Suzhou University of Science and Technology, Suzhou 215009, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 384  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UVCとUVC/PSプロセスを利用するテトラサイクリン(TC)の除去に関する比較研究を系統的に実施した。UVC照射とUVC/PS処理によるTC分解は擬一次速度論に良く適合した。ヒドロキシルラジカル(OH)と硫酸塩ラジカル(SO_4-)は,UVC/PSプロセスにおける一次反応性種として同定された。競争速度論法に基づいて,OHとSO4-と反応するTCの二次反応速度定数は,それぞれ4.6×10~9と2.2×10~9M~-1s-1と計算された。UVC光分解,OHおよびSO_4-に対するTC分解の寄与は,pH7.0でそれぞれ5.91%,61.97%および28.11%と計算された。UVCとUVC/PSプロセスにおけるTC分解は,高いpH依存性で,溶液pHの増加により強化された。水マトリックス成分はラジカル増感剤,ラジカル消光剤および光吸収体を含むTC分解において複数の役割を果たした。天然有機物,CO_32-とHCO_3-はUVC光分解の間の分解を強化したが,反対の現象はUVC/PSプロセスで起こった。Cl-は阻害効果を示したが,TC分解はUVCとUVC/PSプロセスの両方でNO3-により加速された。UVC/PSプロセスにおけるTC分解は,ヒドロキシル化,脱メチル化,脱カルボニル化,光環化,脱水およびCN結合の開裂に分類できる。UVCとUVC/PS前処理の後,ジクロロ酢酸とトリクロロ酢酸の減少した生成とトリクロロメタンの増加した生産を見つけた。TC除去を一次当たりの電気エネルギーに関して評価し,その値はUVCとPSの組合せによりかなり低減できた。超純水を除いて,UVC/PS処理による実際の水からのTCの除去も望ましい。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 脱メチル ,  *ペルオキソ硫酸塩 ,  反応速度定数 ,  消光剤 ,  *硫酸塩 ,  脱カルボニル ,  光分解 ,  pH依存性 ,  一次反応 ,  *ペルオキソ硫酸 ,  ラジカル ,  ヒドロキシ化 ,  増感剤 ,  光吸収 ,  ヒドロキシルラジカル

著者キーワード (6件)： 劣化 ,  テトラサイクリン ,  UVC ,  過硫酸 ,  動力学 ,  消毒副産物

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水中 ,  テトラサイクリン ,  UVC ,  過硫酸塩 ,  プロセス