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J-GLOBAL ID:202002228560787511   整理番号:20A0447221

成膜技術 1 電気めっき 1.1 銅めっき

著者 (1件):
資料名:
巻: 71  号:ページ: 96-97  発行年: 2020年02月01日 
JST資料番号: G0441B  ISSN: 0915-1869  CODEN: HYGIEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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・表面処理技術の最近の進歩を解説する特集において,本稿では成膜技術を取上げ説明。
・特に電気めっきの中で銅めっきを対象にしており,技術開発の駆動力となっている電子機器の高性能化,硫酸銅めっきへの要求,硫酸銅めっき添加剤の進歩ならびに管理手法の進歩について説明。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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電気めっき 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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