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J-GLOBAL ID：202002229468274641   整理番号：20A1069331

バイオポリマーからの還元酸化グラフェン薄膜の作製とその光学定数の評価【JST・京大機械翻訳】

Preparation of reduced graphene oxide thin films from bio-polymer and evaluation of its optical constants

著者 (5件)： Chanda Anupama (Dr. Hari Singh Gour Central University, Sagar, M.P.-470003, India) ,  Pathak Shweta (Dr. Hari Singh Gour Central University, Sagar, M.P.-470003, India) ,  Singh Arun K. (Dr. Hari Singh Gour Central University, Sagar, M.P.-470003, India) ,  Singh Jai (Dr. Hari Singh Gour Central University, Sagar, M.P.-470003, India) ,  Shukla Prashant (Dr. Hari Singh Gour Central University, Sagar, M.P.-470003, India)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 2220  号： 1  ページ： 020052-020052-4  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： その優れた光学的,電気的,機械的および熱的性質のために,グラフェンおよび還元グラフェン酸化物を種々の応用のために研究した。また,化学還元,溶液成長,化学蒸着などの高品質薄膜を製造するために,種々の技術が用いられている。これらの技術において,ほとんど毒性があり,還元可能な試薬とガスが使用されている。ここでは,有害ガスや試薬を使用することなく,還元グラフェン酸化物薄膜の作製のための新しい直接的で簡単な方法を報告する。本研究では,還元酸化グラフェン薄膜を,前駆体材料としてShelllacバイオポリマーを用い,続いて異なる温度でアニーリングする簡単な湿式化学技術により,シリコン基板上に調製した。高分子膜の形成とそれに続くアニーリングの後に,薄膜の構造的および形態的発展をX線回折(XRD)と走査電子顕微鏡(SEM)によってそれぞれ研究し,還元したグラフェン酸化物膜の形成を示した。薄膜の屈折率と消光係数のような光学定数を,低い消光係数を示す分光エリプソメトリ研究と900°Cでアニールした膜のより高い透明度から決定し,光起電力素子応用に対する膜の適合性を示した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  屈折率 ,  焼なまし ,  走査電子顕微鏡 ,  *薄膜 ,  *生体高分子 ,  透明度 ,  有害ガス ,  溶液成長 ,  *光学定数 ,  化学蒸着 ,  前駆体 ,  薄膜成長 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 分光偏光解析法 ,  消光係数 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： バイオポリマー ,  還元酸化グラフェン ,  薄膜 ,  作製 ,  光学定数 ,  評価