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J-GLOBAL ID：202002229855984196   整理番号：20A2223774

噴霧熱分解により調製した親水性ニッケルドープ多孔質SnO_2薄膜【JST・京大機械翻訳】

Hydrophilic nickel doped porous SnO₂ thin films prepared by spray pyrolysis

著者 (6件)： Khalfallah Mehdi (Department of Electronics, Faculty of Technology, University of M’sila, M’sila 28000, Algeria) ,  Guermat Noubeil (Department of Electronics, Faculty of Technology, University of M’sila, M’sila 28000, Algeria) ,  Daranfed Warda (Laboratory of Thin films and Interface, Department of Physics, Faculty of Exact Science, University of Constantine 1, Constantine 25000, Algeria) ,  Bouarissa Nadir (Laboratory of Materials Physics and Its Applications, University of M’sila, M’sila 28000, Algeria) ,  Bakhti Haddi (Department of Electronics, Faculty of Technology, University of M’sila, M’sila 28000, Algeria) ,  Bakhti Haddi (LGE Laboratory, Faculty of Technology, University of M’sila, M’sila 28000, Algeria)
資料名： Physica Scripta  (Physica Scripta)
巻： 95  号： 9  ページ： 095805 (8pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0454B  ISSN： 0031-8949  CODEN： PHSTBO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,光電子工学における最終用途のためのスプレー熱分解技術を用いて,純粋およびニッケルドープ多孔質酸化スズ(SnO_2)薄膜の調製およびキャラクタリゼーションを扱う。これらの調製した試料の構造的,形態的,光学的および電気的性質を様々な方法を用いて調べた。X線回折分析は,純粋なSnO_2とNiドープ膜の正方晶構造を確認した。微結晶の優先配向は,15.3at.%Niでドープした膜で(110)から(200)に変化し,15.3at.%Niドープと5.6at.%NiドープSnO_2で,それぞれ約10と18nmの微結晶サイズであった。走査Electron顕微鏡は,15.3at.%NiドープSnO_2膜表面は比較的均一であるが,5.6at.%Niドープ膜は高度に多孔質であることを示した。測定した接触角は,全ての調製試料で90°以下であり,全ての膜の親水性を確認した。可視域で85%の高い透過率が5.6at.%Niドープ膜で観察され,一方,15.3at.%Niドープ膜ではより低い透過率が観測された。Niドーパント濃度の増加に伴う光学バンドギャップの減少と抵抗率も観測された。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 微結晶 ,  接触角 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  *ニッケル ,  X線回折分析 ,  酸化スズ ,  *ドーピング ,  オプトエレクトロニクス ,  正方晶系 ,  透過率 ,  優先配向 ,  ドーパント ,  光学ギャップ
準シソーラス用語： スプレー熱分解 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 噴霧熱分解 ,  調製 ,  親水性 ,  ニッケル ,  ドープ ,  多孔質 ,  薄膜