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J-GLOBAL ID：202002230204936225   整理番号：20A2558615

フォトレジストの反応時定数制御によるレーザ直接サブミクロン製造【JST・京大機械翻訳】

Laser direct submicron fabrication by controlling reaction time constant of photoresist

著者 (3件)： Ikke Daigo (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate school of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Murata Shingo (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate school of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Egami Chikara (Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate school of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan)
資料名： Optics Communications  (Optics Communications)
巻： 480  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： A0678B  ISSN： 0030-4018  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,連続波(CW)レーザの使用によるフォトレジスト膜上へのサブミクロン構造の作製に焦点を当てた。従来のCWレーザ製作は,レーザビームがビーム露光領域の周辺に影響するので,低い精度を有する。三次元サブ微細加工には不適当である。したがって,フォトレジストの反応速度定数を制御するCWレーザを用いた高精度曝露法を開発した。この方法は,光化学反応の応答を非線形的に曝露強度に依存することにより,曝露面積を制限することを可能にする。本研究では,波長532nmのCWレーザを用いて,集束ビームスポット直径より小さい180nm最小幅を持つ線パターンを露出させた。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 集束 ,  非線形光学 ,  *フォトレジスト ,  波長 ,  光化学反応 ,  レーザビーム ,  連続レーザ ,  時定数 ,  三次元 ,  連続波 ,  微細加工 ,  反応速度定数 ,  ビームスポット ,  高精度

著者キーワード (5件)： レーザ製造 ,  CWレーザ ,  フォトレジスト ,  非線形光学 ,  反応時定数

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトレジスト ,  時定数 ,  レーザ ,  サブ