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J-GLOBAL ID：202002230533648076   整理番号：20A0597228

焼成温度による非担持ナノ構造チタニア-ジルコニアUF/NF膜トップ層の表面電荷特性の修飾【JST・京大機械翻訳】

Modification of surface charge characteristics for unsupported nanostructured titania-zirconia UF/NF membrane top layers with calcination temperature

著者 (2件)： Erdem Ilker (Faculty of Engineering, Material Science and Nanotechnology Engineering Department, Abdullah Guel University, Kocasinan, Kayseri, Turkey) ,  Ciftcioglu Muhsin (Chemical Engineering Department, Izmir Institute of Technology, Urla, Izmir, Turkey)
資料名： Journal of the Australian Ceramic Society  (Journal of the Australian Ceramic Society)
巻： 56  号： 1  ページ： 203-215  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0527A  ISSN： 2510-1560  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： セラミック膜は,高分子膜と比較して,特に過酷な作動条件に対して,より有利な代替物である。セラミック膜(支持体,中間層および上部層から成る)の多孔質多層構造は異なる酸化物を介して調製できる。優れた特性を持つチタニアとジルコニアは,主に上部層形成に好ましい。膜の分離特性は,細孔形態と酸化物の表面電荷に依存し,上部層を形成した。分離における表面電荷の影響は,限外ろ過(UF)とナノろ過(NF)のような比較的低い質量を持つ荷電種の濾過の場合に非常に重要である可能性がある。本研究では,非支持膜上部層をゾル-ゲル法によりチタニア/ジルコニア比を変えて調製した。種々の温度(400°,500°,および600°C)での焼成後の種々のpH条件でのそれらの表面電荷を測定した。純チタニア(完全Ti)上部層の表面電荷は焼成温度の上昇と共に減少した。酸性および塩基性条件の両方に対するゼータ電位の最も高い大きさは,焼成温度≧500°CにおいてZrに富むトップ層(TiZr2575)を介して測定され,それはか焼後にアナターゼ,ルチル(チタニア)および正方晶(ジルコニア)相から成った。テーラーメイドトップ層は,膜調製時の改質により調製できる。Copyright Australian Ceramic Society 2019 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ジルコニウム ,  高分子膜 ,  正方晶系 ,  *ナノ構造 ,  *酸化ジルコニウム ,  上層 ,  か焼 ,  ゾル-ゲル法 ,  酸性 ,  アナターゼ ,  多層構造 ,  ζ電位 ,  *表面電荷 ,  ルチル ,  セラミック膜

著者キーワード (5件)： チタニア ,  ジルコニア ,  膜 ,  か焼 ,  表面電荷

分類 (2件)： セラミック・陶磁器一般  (YC03010K) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (9件)： 焼成温度 ,  担持 ,  ナノ構造 ,  チタニア ,  ジルコニア ,  UF ,  トップ層 ,  表面電荷 ,  修飾