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J-GLOBAL ID：202002231002088390   整理番号：20A1951398

スルーマスク電気化学マイクロマシニングによるマイクロテクスチャ表面生成の実験的研究【JST・京大機械翻訳】

Experimental Investigation Into Micro-Textured Surface Generation by Through-Mask Electrochemical Micromachining

著者 (2件)： Mahata S. (Production Engineering Department, Jadavpur University, Kolkata, India) ,  Bhattacharyya B. (Production Engineering Department, Jadavpur University, Kolkata, India)
資料名： Surface Engineering and Applied Electrochemistry  (Surface Engineering and Applied Electrochemistry)
巻： 56  号： 4  ページ： 440-452  発行年： 2020年 
JST資料番号： W4976A  ISSN： 1068-3755  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ディンプルによるマイクロテクスチャリングは,潤滑とトライボロジー性能の強化のための最も確立された方法の1つである。本研究では,マスクとして低コストフォトレジスト(AZ-4903)を利用する高アスペクト比円形マイクロディンプルを作製するため,スルーマスク電気化学マイクロマシニングの新規アプローチをインストラクションした。発生したマイクロアレイの加工精度と表面特性に及ぼす電解質の種類と濃度と共に印加電圧の影響を理解するために実験を行った。3つの電解質の影響を検討し,10%のNaCl+10%NaNO_3が,生成したマイクロディンプルの深さを39.03μmまで最大化するのに好都合であり,一方,20%NaNO_3の利用によって,アンダーカットは15.15μmに最小化されることが実験的に確立された。生成したマイクロディンプルの表面品質は,10%NaNO_3で機械加工した試料で,最も微細で,すなわち0.062μmであった。30μm,35μm,および40μmの最大深さを有するマイクロディンプルを含むパターン化アレイを,これらの電解質を用いて,ステンレス鋼(SS304)基板上に,かなりの精度と再現性で首尾よく作製した。実験により,この技術を用いたアンダーカットの最少度を有する高アスペクト比マイクロディンプルを得る可能性を確認した。さらに,摩擦試験結果を解析し,異なる深さのマイクロディンプルの摩擦係数における変化を,また,非ディンプル試料と共に解析した。Copyright Allerton Press, Inc. 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 摩擦係数 ,  ステンレス鋼 ,  フォトレジスト ,  塩化ナトリウム ,  テキスチャード加工 ,  摩擦試験 ,  機械工作 ,  電解質 ,  トライボロジー ,  工作精度 ,  *アンダカット ,  パターン形成
準シソーラス用語： 印加電圧 ,  ディンプル ,  *電気化学マイクロマシニング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： マイクロテクスチャアレイ ,  マスク ,  アスペクト比 ,  ディンプル幾何学 ,  加工精度

分類 (3件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (4件)： マスク ,  電気化学マイクロマシニング ,  テクスチャ ,  実験的研究