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J-GLOBAL ID：202002231756810520   整理番号：20A2568105

酸化グラフェン自己集合と還元により銅基板上に形成した連続グラフェン様層【JST・京大機械翻訳】

Continuous Graphene-like Layers Formed on Copper Substrates by Graphene Oxide Self-Assembly and Reduction

著者 (2件)： Fernandez-Sotillo Alba Maria (Department of Energy, CIEMAT, Spain) ,  Ferreira-Aparicio Paloma (Department of Energy, CIEMAT, Spain)
資料名： ACS Applied Energy Materials  (ACS Applied Energy Materials)
巻： 3  号： 10  ページ： 10023-10036  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5032A  ISSN： 2574-0962  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅基板は液体媒体中でのグラフェン酸化物の自発的集合と還元を助けることができることが知られているが,関与するメカニズムについては非常に少ない情報しか知られていない。本研究では,銅基板形状,酸化グラフェン分散濃度,反応時間,反応媒体中の配位子の存在,反応温度など,このプロセスに影響する多くの関連因子を分析した。走査電子顕微鏡(SEM),透過型電子顕微鏡(TEM),X線回折(XRD),X線光電子分光法(XPS),および減衰全反射Fourier変換赤外(ATR-FTIR)などのキャラクタリゼーション技術を適用して,銅上の還元酸化グラフェン(rGO)被覆を特性化した。得られた結果を考慮して,反応機構を提案した。開放領域銅基板は,銅表面の完全な被覆だけでなく,開放領域上の自立連続rGO膜の形成にも有利であった。レドックス過程で発生する銅イオンの除去は,水性媒体に向けてrGO層下を流れるCu2+リッチサブ表面流により起こる。この簡単で費用対効果の高い方法は,ビルディングブロックとしてGO小板の銅誘起自己組織化からグラフェン様二次元層状構造を設計する道を開く。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  赤外線 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  *銅 ,  被覆 ,  酸化還元反応 ,  反応機構 ,  二次元 ,  X線光電子分光法 ,  透過型電子顕微鏡 ,  *自己集合 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： ビルディングブロック ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 自己組織化還元グラフェン酸化物 ,  酸化グラフェン還元機構 ,  懸垂還元グラフェン酸化物層 ,  銅の酸化 ,  Cu_2O形状制御 ,  地下界面イオン流

分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化グラフェン ,  自己集合 ,  還元 ,  銅基板 ,  グラフェン