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J-GLOBAL ID：202002231948642134   整理番号：20A2680419

a-SiO2におけるプロトンの拡散機構【JST・京大機械翻訳】

Proton diffusion mechanism in a-SiO2

著者 (2件)： Zhang Fujie (南開大学 電子信息与光学工程学院,天津 300350) ,  Zuo Xu (南開大学 電子信息与光学工程学院,天津 300350)
資料名： Tai Hezi Kexue Yudianzi Xinxi Xuebao  (Tai Hezi Kexue Yudianzi Xinxi Xuebao)
巻： 18  号： 4  ページ： 738-743  発行年： 2020年 
JST資料番号： C3004A  ISSN： 2095-4980  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 半導体電子デバイスにおけるプロトン拡散はデバイス性能の低下をもたらす。しかし、今まで、プロトンの酸化物における拡散メカニズムについてはまだ完全に解明されていない。原子レベルでa-SiO2中の陽子の拡散挙動を研究した。a-SiO2中のプロトンの拡散係数と活性化エネルギーを,分子動力学シミュレーションから計算した。同時に,プロトン拡散経路が観察された。研究により、プロトンは主にa-SiO2中の酸素原子の形成と解離化合鍵の形式で拡散することが分かった。本論文では、プロトンがa-SiO2に拡散する2つの方式:ジャンプ拡散と回転拡散を提案し、それぞれこれらの2種類の拡散方式に必要な障壁を計算した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 拡散係数 ,  活性化エネルギー ,  半導体 ,  *陽子 ,  計算機シミュレーション ,  酸化物 ,  回転拡散 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： 電子素子 ,  分子動力学シミュレーション ,  酸素原子 ,  拡散経路 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 化学一般その他  (CA01060X) ,  数値計算  (JE02000J)

タイトルに関連する用語 (2件)： プロトン ,  拡散