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J-GLOBAL ID:202002232104399799   整理番号:20A1088417

半導体レーザーを光源に用いたキャビティリングダウン吸収分光法によるプラズマ中のN2(A3Σ+u)密度測定

Measurement of N2(A3Σ+u) density in plasmas by cavity-ringdown absorption spectroscopy employing a diode laser
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巻: 28th  ページ: ROMBUNNO.S-O1-2 (WEB ONLY)  発行年: 2011年 
JST資料番号: U1621A  資料種別: 会議録 (C)
発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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