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J-GLOBAL ID：202002232527473792   整理番号：20A2380836

水からヒ素を除去するためのZr系金属-有機骨格ナノ粒子の欠陥制御【JST・京大機械翻訳】

Defect Control in Zr-Based Metal-Organic Framework Nanoparticles for Arsenic Removal from Water

著者 (3件)： Assaad Nisrine (Department of Chemistry, Faculty of Arts and Sciences, American University of Beirut, Lebanon) ,  Sabeh Ghewa (Department of Chemistry, Faculty of Arts and Sciences, American University of Beirut, Lebanon) ,  Hmadeh Mohamad (Department of Chemistry, Faculty of Arts and Sciences, American University of Beirut, Lebanon)
資料名： ACS Applied Nano Materials  (ACS Applied Nano Materials)
巻： 3  号： 9  ページ： 8997-9008  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5033A  ISSN： 2574-0970  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,種々の欠陥濃度の水安定性Zr-金属-有機骨格(MOF)(UiO-66)ナノ粒子を調製し,水からのヒ酸塩除去用の吸着剤として試験した。誘導欠陥は,合成混合物へのモノカルボン酸モジュレータ[酢酸またはトリフルオロ酢酸(TFA)]の添加に起因した。欠陥の濃度を,変調器のタイプと量を変えることによって効果的に調整し制御した。結果として,水からのヒ酸塩に対する種々の吸着容量が得られ,その中で,モジュレーターとしてTFAを用いて得られた最も変調された試料(UiO-66-36TFA)は,中性pHで,他の報告されたすべてのMOFの中で,最大である,中性pHで,約200mg/gの吸着容量を示した。UiO-66の欠陥を導入することによって,ヒ酸塩取込パーセンテージは,本研究でテストした無欠陥UiO-66と比較して100%以上増強された。優れたヒ素取込は,リンカー欠陥の欠損の結果として,MOFクラスタ中に生成した遊離Lewis酸サイトに起因した。さらに,ナノ粒子は妨害アニオンに対して顕著なヒ酸塩選択性を示し,5回の再生サイクル後に同じ吸着容量を維持するために効率的にリサイクルされた。さらに,この試料(0.5mg)の少量を用いて,超痕跡ヒ酸塩(5ppb)を完全に除去し,実際の応用におけるその高い効率を証明した。従って,欠陥のあるナノスケールUiO-66試料は将来の水浄化技術の道を開く。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ジルコニウム ,  *ヒ素 ,  変調器 ,  ヒ酸塩 ,  吸着剤 ,  浄水 ,  Lewis酸 ,  クラスタ ,  アニオン ,  *ナノ粒子
準シソーラス用語： リンカ ,  吸着容量 ,  ナノスケール ,  UiO-66 ,  *MOF【配位高分子】 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ヒ素 ,  金属-有機骨格 ,  欠陥 ,  水 ,  変調器

分類 (1件)： 第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水 ,  ヒ素 ,  Zr ,  金属-有機骨格 ,  ナノ粒子 ,  欠陥