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J-GLOBAL ID：202002232887639923   整理番号：20A1692985

選択的電子ビーム表面合金化によるAl-Hf合金の形成とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Formation and characterization of Al-Hf alloys by selective electron-beam surface alloying

著者 (2件)： Valkov S (Acad. Emil Djakov Institute of Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, 72 Tzarigradsko Chaussee, 1784 Sofia, Bulgaria) ,  Petrov P (Acad. Emil Djakov Institute of Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, 72 Tzarigradsko Chaussee, 1784 Sofia, Bulgaria)
資料名： Journal of Physics: Conference Series  (Journal of Physics: Conference Series)
巻： 1492  号： 1  ページ： 012042 (4pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5565A  ISSN： 1742-6588  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： HfとAl基板の電子ビーム表面合金化を報告する。Al基板は厚さ2μmのHf被覆で覆われた。試料は,ビーム偏向の円形形状を有する走査電子顕微鏡によって合金化した。得られた試料の相組成をX線回折(XRD)によって研究した。それらの微細構造と化学組成を,それぞれ走査電子顕微鏡(SEM)とエネルギー分散X線分光法(EDX)によって調べた。結果は,相組成が試料運動の速度に依存しないことを示した。しかしながら,それらの微細構造は,より高い速度V_2=1cm/sと比較して,運動V_1=0.5cm/sのより低い速度の場合,かなり微細で,より均一であった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  化学組成 ,  *合金 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  *電子ビーム ,  微細構造 ,  *アルミニウム ,  *ハフニウム ,  被覆 ,  相組成 ,  *合金化 ,  キャラクタリゼーション ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： *表面合金化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： その他の表面処理  (WC08070F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子ビーム ,  表面合金化 ,  Al ,  Hf合金 ,  キャラクタリゼーション