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J-GLOBAL ID:202002234293084305   整理番号:20A2052083

フロートポリシング法における浮上原理の解明

Elucidation of levitation principle in float polishing method
著者 (5件):
資料名:
巻: 2020  号: 秋季(CD-ROM)  ページ: ROMBUNNO.B1103  発行年: 2020年08月20日 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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・フロートポリシング法の構造を説明し,その研磨ギャップ距離の計測と計算流体力学(CFD)解析にて,その浮上原理を検討。
・フロートポリシング法の実験装置を製作し,研磨ギャップ距離を測定し,工作物中央で4μmが得られ,この値は文献結果と一致。
・この実験結果に基づいたCFDシミュレーションモデルを構築し,CFDシミュレーションにて圧力分布,浮上力を算出し,ラップの回転効果が大きいことが判明。
・スラリーの粘性を測定し,スラリーが非ニュートン流体特性であり,工作物の浮上安定性に影響と説明。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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準シソーラス用語:
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分類 (5件):
分類
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研削  ,  流体の実験・試験・測定方法及び装置  ,  流体動力学一般  ,  非Newton流  ,  磁性流体 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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