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J-GLOBAL ID：202002234585890346   整理番号：20A1085058

可視光照射を用いて生成した防汚高分子ゲルプラットフォームによる蛋白質パターン形成【JST・京大機械翻訳】

Protein patterning with antifouling polymer gel platforms generated using visible light irradiation

著者 (3件)： Iwasaki Yasuhiko (Department of Chemistry and Materials Engineering, Faculty of Chemistry, Materials and Bioengineering, Kansai University, 3-3-35 Yamate-cho, Suita-shi, Osaka 564-8680, Japan. [e-mail]) ,  Bunuasunthon Sukulya ,  Hoven Voravee P.
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 56  号： 41  ページ： 5472-5475  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体表面上の可視光支援蛋白質パターン形成をチロシン残基を有するホスホリルコリン(PC)ポリマを用いて行った。PC重合体の防汚特性のために,蛋白質固定化は位置特異的に制御され,その結果,微小加工表面が免疫アッセイプラットホームとして使用されることを可能にした。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 重合体 ,  *タンパク質 ,  *可視光 ,  免疫学的試験 ,  微細加工 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： ポリマゲル ,  チロシン残基 ,  固体表面 ,  *可視光照射 ,  蛋白質固定化 ,  汚損防止 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N)

タイトルに関連する用語 (6件)： 可視光照射 ,  防汚 ,  高分子ゲル ,  プラットフォーム ,  蛋白質 ,  パターン形成