抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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運動学によって構築された遊星二重側面ラッピング運動の方程式を解析するために,減少を採用し,ラッピング-Iのプロセスにおける重要なパラメータ(回転速度における研削ディスクと内部ピンリングの比率)を,研削ディスクの表面に対する工作物におけるポイントのラッピング軌道の均一性の条件を満たした。結果は,ラッピング軌道の均一性を満たす比率Iが時間tの関数であることを示した。一方,与えられた遊星二重側面ラッピング機に対しては,時間にわたって変化し続ける限り,ラップ軌跡の均一性を満足する一定比(有理または不合理)のIは存在しない。本研究は,ラッピング軌道の均一性における更なる研究のための理論的基礎を置き,また,工作物と砥石車の間の相対速度の解析,研削砥石の摩耗均一性,および工作物表面品質の研究のための新しいアイデアと方法を提供した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】