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J-GLOBAL ID：202002235386418134   整理番号：20A2453468

オーバーモードMPCVD反応器チェンバにおけるダイヤモンド膜の堆積に及ぼす基板周囲の気体流モードの影響に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation on the influence of the gas flow mode around substrate on the deposition of diamond films in an overmoded MPCVD reactor chamber

著者 (7件)： Wang B. (Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province, Wuhan Institute of Technology, Wuhan, 430205, China) ,  Weng J. (Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province, Wuhan Institute of Technology, Wuhan, 430205, China) ,  Wang Z.T. (Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province, Wuhan Institute of Technology, Wuhan, 430205, China) ,  Wang J.H. (Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province, Wuhan Institute of Technology, Wuhan, 430205, China) ,  Wang J.H. (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei, 230031, China) ,  Liu F. (Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province, Wuhan Institute of Technology, Wuhan, 430205, China) ,  Xiong L.W. (Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials of Hubei Province, Wuhan Institute of Technology, Wuhan, 430205, China)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 182  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 過モード自家製MPCVD反応器において,ダイヤモンド膜の堆積に及ぼす気体流モードの影響を5800Wのマイクロ波出力でH_2/CH_4ガス混合物で調べた。シミュレーション結果は,改良気体流モードが基板の周りで確立されたとき,ダイヤモンド膜が,比較的高いガス流速のガス混合物で満たされた環境で成長できることを示した。走査電子顕微鏡とRamanスペクトルは,改善された気体流モードがダイヤモンド膜のエッジ領域におけるよくファセット化した結晶の成長において役割を果たすことを示した。ダイヤモンド膜の品質,成長速度および均一性は,改善された気体流モードを導入するとき,著しく改良することができた。実験結果を説明するために,プラズマを発光分光計で測定した。改良されたガス流モードでは,プラズマ中のC_2とHの活性化種は均一な分布を示す。さらに,改善されたガス流モードは,活性化C_2とHの濃度が結合される領域の面積を拡大した。直径50.8mmと101.6mmのダイヤモンド膜を最終的に改良ガス流モードに堆積した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Ramanスペクトル ,  混合気体 ,  プラズマ ,  シミュレーション ,  走査電子顕微鏡 ,  マイクロ波 ,  *反応器 ,  *気体流 ,  流速 ,  ファセット ,  発光分光法 ,  成長速度
準シソーラス用語： *チャンバ ,  *ダイヤモンド膜 ,  *マイクロ波プラズマCVD , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ガスフローモード ,  ダイヤモンド膜 ,  均一性 ,  マイクロ波プラズマ ,  化学蒸着

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： MPCVD ,  反応器 ,  チェンバ ,  ダイヤモンド膜 ,  堆積 ,  気体流 ,  研究