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J-GLOBAL ID：202002236185813425   整理番号：20A0321006

イオンをドープした液晶EBBAにおける負の粘性

著者 (5件)： 小林史明 (北大 大学院) ,  佐々木裕司 (北大 大学院) ,  藤井修治 (北大 大学院) ,  折原宏 (北大 大学院) ,  長屋智之 (大分大 大学院)
資料名： レオロジー討論会講演要旨集  (レオロジー討論会講演要旨)
巻： 67th  ページ： 148-149  発行年： 2019年10月16日 
JST資料番号： L0844A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 最近,著者らは,高いAC電場を受けるネマチック液晶MBBA(p-メトキシベンジリデン-p’-n-ブチルニ線)におけ...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： ドーピング ,  レオメータ ,  剪断流 ,  剪断速度 ,  レオロジー ,  剪断応力 ,  依存性 ,  電場 ,  乱流 ,  ガラス ,  酸化インジウムスズ ,  *自然発生 ,  *剪断係数 ,  芳香族アミン ,  芳香族アルデヒド ,  アゾメチン ,  フェノールエーテル
準シソーラス用語： 流れのせん断応力 ,  電場依存性 ,  ITOガラス

分類 (3件)： ネマチック相  (BK03020W) ,  粘性,粘弾性の計測法・機器  (AD05070R) ,  レオロジー一般  (BL01011R)

物質索引 (3件)： EBBA ,  テトラブチルアンモニウム・ベンゾアート ,  MBBA

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン ,  ドープ ,  液晶 ,  EBBA ,  粘性