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J-GLOBAL ID：202002236228527957   整理番号：20A2579728

金属薄膜の構造変態により駆動された均一多層六方晶窒化ホウ素の化学蒸着成長【JST・京大機械翻訳】

Chemical Vapor Deposition Growth of Uniform Multilayer Hexagonal Boron Nitride Driven by Structural Transformation of a Metal Thin Film

著者 (5件)： Uchida Yuki (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University, Japan) ,  Kawahara Kenji (Global Innovation Center (GIC), Kyushu University, Japan) ,  Fukamachi Satoru (Global Innovation Center (GIC), Kyushu University, Japan) ,  Ago Hiroki (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University, Japan) ,  Ago Hiroki (Global Innovation Center (GIC), Kyushu University, Japan)
資料名： ACS Applied Electronic Materials  (ACS Applied Electronic Materials)
巻： 2  号： 10  ページ： 3270-3278  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5669A  ISSN： 2637-6113  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 六方晶窒化ホウ素(h-BN),特に多層h-BNは,周囲の環境からの影響の効果的スクリーニングにより,それらの固有で優れた物理的性質の観察を可能にすることにより,二次元材料の研究において重要な役割を果たした。しかし,大規模に高品質多層h-BNを合成することは,まだ困難であり,その成長機構は明確には理解されていない。ここでは,異なる結晶面を有するサファイア基板上に蒸着した薄いNi-Fe膜を用いた多層h-BNの化学蒸着(CVD)成長を調べた。r面サファイア上のNi-Fe膜は,表面被覆率がc-およびa-面サファイア上よりも遥かに高い均一な多層h-BNシートを生成することが分かった。Electron後方散乱回折およびX線回折研究は,Ni-Fe/r-サファイア上の多層h-BNの均一な偏析が,多結晶から面心立方(fcc(111))構造へのNi-Fe薄膜の劇的な構造変化と同時に起こることを明らかにした。他方,c-およびa-面サファイア上のNi-Fe膜は,ボラジン原料との反応の前にさえfcc(111)構造を有し,このような構造変化を示さなかった。均一なh-BN偏析に伴うNi-Fe薄膜のユニークな結晶学的変化は,スピネル基板を用いた研究によってさらに支持された。本研究は,h-BN成長における薄膜金属触媒の結晶構造の動的発展の本質的な役割を示し,高品質で均一な多層h-BN膜の合成のための金属触媒の結晶学的特性の制御の重要性を強調した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 回折 ,  結晶構造 ,  スピネル ,  *薄膜 ,  偏析 ,  結晶学 ,  多結晶 ,  *金属薄膜 ,  サファイア ,  *化学蒸着 ,  *薄膜成長 ,  金属触媒 ,  スクリーニング ,  結晶面
準シソーラス用語： 構造変化 ,  *六方晶窒化ホウ素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 多層h-BN ,  CVD ,  サファイア ,  合金触媒 ,  サファイア ,  成長機構

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 金属薄膜 ,  構造変態 ,  多層 ,  六方晶窒化ホウ素 ,  化学蒸着 ,  成長