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J-GLOBAL ID:202002236496895679   整理番号:20A2239508

Ge(111)基板上にMBE成長したGaSe薄膜の平面STM・STEM観察

著者 (7件):
資料名:
巻: 67th  ページ: ROMBUNNO.15a-PB1-20  発行年: 2020年02月28日 
JST資料番号: Y0054B  ISSN: 2436-7613  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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層状材料(LM)は、ファンデルワールスエピタキシー(VDWE)を介してさまざまな基板にエピタキシー成長できることが知られている。しかしながら、成長した薄膜と基板の界面における原子配列(歪み分布や配向性など)は十分に理解されていない。その理...【本文一部表示】
シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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半導体薄膜 

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