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J-GLOBAL ID：202002236837968499   整理番号：20A0968230

原子間力顕微鏡画像によるTiO_2薄膜の微細形態解析:ポストアニーリングの影響【JST・京大機械翻訳】

Micromorphology analysis of TiO₂ thin films by atomic force microscopy images: The influence of postannealing

著者 (8件)： Talu Stefan (Technical University of Cluj-Napoca, The Directorate of Research, Development and Innovation Management (DMCDI), Constant in Daicoviciu St., no. 15, Cluj-Napoca, 400020, Cluj county, Romania) ,  Achour Amine (University of Namur, Research Centre in Physics of Matter and Radiation (PMR), LISE Laboratory, B-5000, Namur, Belgium) ,  Solaymani Shahram (School of Physics, Institute for Research in Fundamental Sciences (IPM), P.O. Box 19395-5531, Tehran, Iran) ,  Nikpasand Kimia (Department of Physics, Faculty of Sciences, Science and Research Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran) ,  Dalouji Vali (Department of Physics, Faculty of Science, Malayer University, Malayer, Iran) ,  Sari Amirhossein (Department of Physics, Faculty of Sciences, Science and Research Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran) ,  Rezaee Sahar (Department of Physics, Kermanshah Branch, Islamic Azad University, Kermanshah, Iran) ,  Nezafat Negin B. (School of Physics, Institute for Research in Fundamental Sciences (IPM), P.O. Box 19395-5531, Tehran, Iran)
資料名： Microscopy Research and Technique  (Microscopy Research and Technique)
巻： 83  号： 5  ページ： 457-463  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0531A  ISSN： 1059-910X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,原子間力顕微鏡(AFM)を用いた三次元(3D)表面特性化と相関したO_2/Ar雰囲気中での直流(DC)平面マグネトロンスパッタリングシステムにより,シリコン基板上に作製した二酸化チタン(TiO_2)薄膜の解析を記述した。同じ堆積時間(30分)を用いてシリコン基板上に温度200,300および400°Cで試料を成長させ,4つのグループに分布させた:グループI(堆積したままのサンプル),グループII(200°Cでアニールしたサンプル),グループIII(300°Cでアニールしたサンプル)およびグループIV(400°Cでアニールしたサンプル)。サイズが0.95μm×0.95μmのAFM画像を256×256画素の走査分解能で記録した。立体分析をAFMデータに基づいて行い,表面トポグラフィーをISO25178-2:2012と米国機械学会(ASME)B46.1-2009規格に従って記述した。グループII(Sq=7.96±0.1nm)およびグループIV(Sq=3.87±0.1nm)の表面において,それぞれ最大および最小二乗平均二乗粗さが観察された。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最小二乗法 ,  *薄膜 ,  規格 ,  分解能 ,  画素 ,  直流 ,  表面粗さ ,  三次元 ,  *原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  フラクタル解析 ,  二酸化チタン ,  微細形状 ,  表面トポグラフィー ,  *ポストアニーリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 原子間力顕微鏡 ,  フラクタル解析 ,  立体計量分析 ,  TiO2薄膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子間力 ,  顕微鏡画像 ,  薄膜 ,  微細形態 ,  解析 ,  ポストアニーリング