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J-GLOBAL ID:202002236955779694   整理番号:20A1961214

熱原子層蒸着のランツーラン制御【JST・京大機械翻訳】

Run-to-Run Control of Thermal Atomic Layer Deposition
著者 (4件):
資料名:
巻: 2020  号: MED  ページ: 1080-1086  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究は,バッチ原子層堆積(ALD)プロセスの計算流体力学(CFD)モデルの開発と,関連するランツーラン制御スキームに焦点を当てた。特に,前駆体としてBTBASとオゾンを用いたSiO_2薄膜ALDについて,円筒形炉反応器を解析した。最初に,工業規模炉ALDシステムのための高忠実度2D軸対称マルチスケールCFDモデルを,ANSYS Fluentで開発し,気相発達と表面堆積を特性化し,これは,速度論的モンテカルロ(kMC)アルゴリズムを用いて以前に構築したデータベースに基づいている。マルチスケールCFDモデルの検証後,広範囲の操作条件を調べるために,回帰モデルを開発し,入口供給流量と半サイクル時間の入出力関係を記述した。次に,ランツーラン(r2r)制御方式を定式化し,それは,回帰関係と指数的加重移動平均(EWMA)アルゴリズムを用いて,操作条件を調整するためのポストバッチフィードバック情報を使用した。最後に,マルチスケールCFDモデルとr2r制御装置を統合して,メッセージ通過インタフェイス(MPI)とデータ同期方式を通して閉ループシステムを作り出して,r2r制御装置の性能を評価する。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
分類
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医用画像処理  ,  音声処理  ,  NMR一般  ,  符号理論  ,  図形・画像処理一般 
タイトルに関連する用語 (1件):
タイトルに関連する用語
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