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J-GLOBAL ID:202002237509103872   整理番号:20A2229888

イオの足跡テールElectronフラックスの変化を説明する新しいフレームワーク【JST・京大機械翻訳】

A New Framework to Explain Changes in Io’s Footprint Tail Electron Fluxes
著者 (16件):
資料名:
巻: 47  号: 18  ページ: e2020GL089267  発行年: 2020年 
JST資料番号: H0609B  ISSN: 0094-8276  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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著者らは,0.15から1.1Jovian半径(R_J)の高度にわたって,Ioのフットプリントテールオーロラの18の交差に接続した沈殿電子フラックスを解析した。析出電子フラックスの強度は,「Io-Alfvenテール距離」,Io間のIoの軌道に沿った角度,およびテールオーロラに接続されたAlfven波軌跡によって,支配的に組織化される。これらのフラックスは,21°Cのe-折畳み距離でダウンテール範囲の関数として指数に最も良く適合した。加速度領域高度はダウンテールを増加させ,テールオーロラを維持する並列電子加速の大部分は高度で1R_J以上で起きた。Ioから打ち上げられた初期Alfven波のテールフラックスとパワーとの相関は見出せなかった。最後に,JunoはIoの主なAlfven Wingフラックス管を通過し,降水電子フラックスλ>600mW/m2と高度で0.4R_Jの低い加速領域を有する特徴的に異なる特徴を観察した。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
分類
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磁気圏  ,  惑星  ,  極光 

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