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J-GLOBAL ID：202002238033738499   整理番号：20A1877461

BiVO_4光アノードの表面および界面工学により増強された有機汚染物質の分解と結合した光電気化学的水分解【JST・京大機械翻訳】

Photoelectrochemical water splitting coupled with degradation of organic pollutants enhanced by surface and interface engineering of BiVO₄ photoanode

著者 (7件)： Liu Jingchao (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Li Jianming (Petroleum Geology Research and Laboratory Center, Research Institute of Petroleum Exploration & Development (RIPED), PetroChina, Beijing, 100083, China) ,  Li Yanfei (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Guo Jian (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Xu Si-Min (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Zhang Ruikang (College of Chemistry and Material Science, Hebei Normal University, Shijiazhuang, Hebei, 050024, China) ,  Shao Mingfei (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China)
資料名： Applied Catalysis. B: Environmental  (Applied Catalysis. B: Environmental)
巻： 278  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0375A  ISSN： 0926-3373  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 抗生物質耐性は多剤耐性細菌の世界的な出現によって示されるように世界的な問題となり,製薬廃水から抗生物質を除去する効果的な技術を開発する緊急の需要となっている。本研究では,純粋なH_2発生と組み合わせた廃水からの抗生物質テトラサイクリンの同時除去を,FドープBiVO_4@NiFe-LDH(F-BiVO_4@NiFe-LDH)コア-シェル光アノードを用いてPEC技術によって成功裏に達成した。1.23V対RHEでのF-BiVO_4@NiFe-LDH光アノードの最大光電流密度は,元のBiVO_4光電極の約6倍である。さらに,複合光アノードをテトラサイクリン塩酸塩(TCH)のPEC分解に効果的に適用し,報告した結果より優れていた。実験-計算組合せ研究は,FドーピングとNiFe-LDH間の相乗効果がBiVO_4の光吸収,電荷分離および電荷注入効率を同時に改善することを明らかにした。本研究は,水素を生産するための水分解のための太陽光駆動,効率的で持続可能な方法,および廃水処理への新しい洞察を提示する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  廃水 ,  廃水処理 ,  水素 ,  細菌 ,  抗生物質 ,  ドーピング ,  太陽光 ,  電流密度 ,  電荷分離 ,  多剤耐性 ,  コアシェル構造 ,  エノール ,  芳香族ケトン ,  フェノール類 ,  カルボアミド ,  エノン ,  芳香族縮合化合物 ,  アミノアルコール ,  ケト酸 ,  ジケトン ,  第三アミン ,  ヒドロキシ酸 ,  ヒドロキシケトン ,  ポリオール
準シソーラス用語： *有機汚染物質 ,  *光アノード , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： フッ素ドープ ,  BiVO_4@NiFe-LDH ,  コア-シェルナノ構造 ,  光電気化学 ,  テトラサイクリンの分解

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： テトラサイクリン

タイトルに関連する用語 (8件)： 光アノード ,  界面 ,  工学 ,  増強 ,  有機汚染物質 ,  分解 ,  光電気化学 ,  水分解