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J-GLOBAL ID：202002238501980796   整理番号：20A1141915

ゾルゲル法によりLiTaO3薄膜を調製した。【JST・京大機械翻訳】

Preparation of LiTaO3 Thin Films by Sol-gel Method

著者 (5件)： Sun Binwei (電子科技大学光電科学与工程学院 成都 610054) ,  Yang Ming (電子科技大学光電科学与工程学院 成都 610054) ,  Gou Jun (電子科技大学光電科学与工程学院 成都 610054) ,  Wang Jun (電子科技大学光電科学与工程学院 成都 610054) ,  Jiang Yadong (電子科技大学光電科学与工程学院 成都 610054)
資料名： Dianzi Keji Daxue Xuebao  (Dianzi Keji Daxue Xuebao)
巻： 49  号： 2  ページ： 283-286  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1475A  ISSN： 1001-0548  CODEN： DKDAEM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： LiTaO3薄膜をゾル-ゲル法によりFTO導電性ガラス基板に蒸着し,膜の表面形態,結晶特性及び光学的特性をTG-DTA,SEM,XRD及びUV-Vis分光法で解析した。その結果,650°Cでアニールした薄膜は,(006)結晶上に強い優先配向性を持ち,表面モルホロジーは均一で緻密で,薄膜亀裂は減少し,不純物LiTa3O8ピークの半値幅と光学バンドギャップEgは薄膜結晶性能に明らかに影響を受けることが分かった。光学バンドギャップ値Egは不純物LiTa3O8半値幅の低下に伴い増加し,LiTaO3薄膜の光学バンドギャップEg青方偏移は3.87eVから3.91eVに増加した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 亀裂 ,  光学的性質 ,  *薄膜 ,  不純物 ,  半値幅 ,  *タンタル酸リチウム ,  青方偏移 ,  優先配向 ,  *ゾル-ゲル法 ,  光学ギャップ ,  導電性
準シソーラス用語： 表面形態 ,  ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (3件)： ゾルゲル法 ,  薄膜 ,  調製