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J-GLOBAL ID:202002238725065745   整理番号:20A1257721

SAFIIRA:ブラジルにおける重イオン多目的照射施設【JST・京大機械翻訳】

SAFIIRA: A heavy-ion multi-purpose irradiation facility in Brazil
著者 (43件):
資料名:
巻: 91  号:ページ: 053301-053301-9  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0517A  ISSN: 0034-6748  CODEN: RSINAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,主に電子機器の照射を目的として,サンパウロ大学における適用核物理学のための新しい施設について述べた。それは,1Hから約107Agまでの低強度,大面積,高均一性の重イオンビームを生成するために,金箔を通してのビーム集束/デフォーカスプラス多重散乱のための四重極二重項から構成される装置である。ビーム強度は10~2粒子cm~2/sから数百nAまで容易に調整でき,面積は2.0cm~2,均一性は90%以上であった。その照射室は高精度のモータ化ステージを有し,システムはLabView~TM環境によって制御され,測定自動化を可能にする。設計考察と使用例を紹介した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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電子源,イオン源  ,  LCR部品 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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